<code id="xemyn"></code>

    <u id="xemyn"><address id="xemyn"><menu id="xemyn"></menu></address></u><rt id="xemyn"><address id="xemyn"></address></rt><dfn id="xemyn"></dfn>

    1. <u id="xemyn"></u>

      1. <tt id="xemyn"></tt>
    2. <u id="xemyn"></u>
      1. <blockquote id="xemyn"><rp id="xemyn"><address id="xemyn"></address></rp></blockquote>

        槽式RCA清洗設備

        產品與服務 > 濕法設備系列 > 槽式RCA清洗設備

        槽式RCA清洗設備

        用于擴散后的硅片去繞鍍、清洗處理。

        設備名稱 Equipment Name

        槽式RCA清洗設備 Batch-type RCA Cleaning Equipment

        設備型號 Equipment Model

        SC-CSZJ9600E-20F

        設備用途 Equipment Application

        用于擴散后的硅片去繞鍍、清洗處理。

        Used for wrap around removal & cleaning of the diffused silicon wafers.

        工藝流程 Process Flow

        去繞鍍→后清洗→酸洗→后清洗→酸洗→預脫水→烘干 (供參考)  

        Wrap Around Removal → Post-clean→ Acid Clean → Post-clean→Acid Clean→ Hot Water Drying → Drying (for reference)

        技術特點  Features

        1、產能:400片/批,9600片/小時(210硅片),480片/批,12000片/小時(182硅片)。

        Throughput: 400pcs/batch, 9600pcs/h(210mm wafer),480pcs/batch, 12000pcs/h (182mm wafer).

        2、支持多種添加劑技術。

        Various additive technologies available.

        3、支持最薄120μm硅片。

        Wafer thickness down to 120μm.

        4、潔凈區(qū)域干燥,自潔凈系統(tǒng)。

        With dry clean area and self-cleaning system.

        5、快速換液,在線換液。

        Quick inline bath change.

        6、支持MES、RFID及選配在線稱重功能。

        Available with MES, RFID system, inline weight testing optional.


        設備參數 Parameters

        国产亚洲91手机在线视频_国产一区二区三区污污_97超巨香蕉人妻在线点播欧美_亚洲综合无码精品视频
          <code id="xemyn"></code>

          <u id="xemyn"><address id="xemyn"><menu id="xemyn"></menu></address></u><rt id="xemyn"><address id="xemyn"></address></rt><dfn id="xemyn"></dfn>

          1. <u id="xemyn"></u>

            1. <tt id="xemyn"></tt>
          2. <u id="xemyn"></u>
            1. <blockquote id="xemyn"><rp id="xemyn"><address id="xemyn"></address></rp></blockquote>