磁控濺射鍍膜設備(PVD)
磁控濺射鍍膜設備(PVD)
技術特點 Features
· 磁控濺射沉積。
鍍膜原理 Coating Principle
· PVD具有多階陰極，可以制備種子層與多種折射率的疊層TCO。
可兼容硅片尺寸 Compatible Wafer Size
· M10, M12/G12, 整片/半片。
上一個：
激光優化燒結設備
下一個：
高效鈣鈦礦太陽能電池智能生產線
TOP