反應式等離子體鍍膜設備 (RPD)

  技術特點 Features  

· 具有低溫與低轟擊特性的RPD 裝備是沉積各種薄膜時能保護鈣鈦礦吸收層的最佳利器。

· 直線式RPD 裝備能保持在真空環境下連續沉積鈣鈦礦所需各種ITO/IWO/ICO/Cu/SnO2 薄膜而不接觸大氣。

· 模塊化的RPD 裝備可以與鈣鈦礦吸收層ABX3 共蒸鍍、NiO 磁控濺射相配套來節約鈣鈦礦元件開發的試驗成本。

· 各種冷阱、相鄰鍍膜腔工藝氣氛隔絕與加熱器等選項，可以讓客戶發揮更多的鈣鈦礦薄膜組合與接面特性分析。

· RPD 鍍膜適合鈣鈦礦、異質結太陽能電池、微型發光二極管與量子點顯示器等的各種薄膜制備。