管式二合一PECVD設備

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        管式二合一PECVD設備

        AlO+SiN薄膜沉積。


        設備名稱 Equipment Name

        管式二合一PECVD設備  Horizontal PECVD (Two-In-One)

        設備型號 Equipment Model

        PD-520/PD-520L/PD-520MAX

        設備用途 Equipment Application

        AlO+SiN薄膜沉積。

        AlOx+SiN deposition.


        技術特點  Features

        1、AlOx+SiN二合一同管完成,減少工藝環節,有效提升良率、降低碎片率。

        The AIOx & SiN layers can be coated in the same furnace tube which helps in reducing the process steps,improving the yield and lowering the breakage rate effectively.  

        2、單機產能優越的二合一配置方案。
        Optimal throughout solution: two-in-one configuration. 


        設備參數  Parameters


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