板式透明導電薄膜沉積設備(RPD/PAR/PVD)
板式透明導電薄膜沉積設備(RPD/PAR/PVD)
技術特點 Features
· PVD具有多階陰極，可以制備種子層與多種折射率的疊層TCO。
· RPD具有無高能離子轟擊襯底特點，能制備高少子遷移率的TCO。
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