板式透明導(dǎo)電薄膜沉積設(shè)備(RPD/PAR/PVD)
        
    
        
        
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        板式透明導(dǎo)電薄膜沉積設(shè)備(RPD/PAR/PVD)
        
                        
        
                        
        
                        
        

        
                                        

          技術(shù)特點  Features  
        · PVD具有多階陰極，可以制備種子層與多種折射率的疊層TCO。
        · RPD具有無高能離子轟擊襯底特點，能制備高少子遷移率的TCO。


        
                        
        
                                            
        
                    
        
                        
        
                                                                                                            
        
                                            
        
                                    
        
                
        
            
        
        
        
        
        
        
            
        
                                            
        
        
        
    
        

        


         
        
        
    
        
    

        


        










 





 

 

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